光學薄膜設計軟體 TFV
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變更日誌

版本3.3.7的更新

錯誤修復

修正了優化過程中可能導致「global search」和「needle search」出錯的錯誤。
修復目標資料點數量極大時，因記憶體不足導致優化出錯的問題。
修正了優化期間無法在「手動模式」下選擇入射角圖表中的系列的錯誤。
修正了導致相位差（dFr、dFt）（[選項]-[其他]）計算方法切換無法正常運作的錯誤。

版本3.3.6的更新

錯誤修復

修正了斜入射時[n和k分析]-[計算無吸收的基板的折射率(n)]無法計算雙面反射率或透射率的錯誤。

版本3.3.5的更新

錯誤修復

修正了Needle Search時Stack中沒有薄膜時會發生錯誤的錯誤。

版本3.3.4的更新

錯誤修復

修正了在Needle Search參數畫面上新增Material時出現錯誤的錯誤。
修正瞭如果吸收膜太厚會出現錯誤的錯誤。

改進

提高了計算速度。
Needle Search演算法略有改變。

版本3.3.3的更新(僅示範版)

錯誤修復

修正了入射角為 45 度或以上時出現錯誤的錯誤。

版本3.3.2的更新

錯誤修復

修正了在顯示Stack視窗時更改週期圖層的週期或放大倍率時發生錯誤的錯誤。
修正了當週期層的週期非常大(大約幾千)時出現錯誤的錯誤。

版本3.3.1的更新

錯誤修復

修正了在單層薄膜的nk分析中選擇不均勻性時導致錯誤的錯誤。
修正了按下主視窗上的適用程式按鈕時薄膜厚度變化滑動條的起始位置會發生變化的錯誤。
顯示字元略有修改。

版本3.3.0的更新

光譜類型和單位

現在支援以下光譜類型和單位。

光譜類型 單位
波長 Å, nm, μm, mm
頻率 PHz, THz, GHz
波數 cm-1, μm-1, 2π/cm
角頻率 rad/fs
能量 eV, keV
g-Number λ/λ0
頻譜類型選擇畫面

R, T, A單位

現在您可以選擇反射率(R)、透射率(T)和吸收率(A)的單位。

反射率、透射率和吸收率的單位
0-1, %, dB
RTA單位選擇畫面

光密度

現在可以計算光密度 (OD)。

OD選擇畫面

膜厚單位

在物理膜厚單位中添加μm 和mm。

膜厚類型 單位
物理膜厚 Å, nm, μm, mm
光學膜厚 FWOT, QWOT
膜厚單位選擇畫面

Bug修復

修正了部分地區在使用句點以外的其他符號來標記小數點時，會出現異常錯誤的Bug。
修正了在輸入堆疊的基板與介質厚度時，小數點後兩位數以上會沒有反應的Bug。
修正了層數較多的時候（約幾千層）會出現異常錯誤的Bug。
修復了其他小錯誤。

機能の改善、仕様変更

優化結果中的「偏差度」修改為「Merit（評價函數）」。
\(Merit = \sqrt{ {1 \over N} \sum_{i=1}^{N}(T_i-T'_i)^2 } \)
N:目標數量、Ti:計算值値、T'i:目標價值
\(Merit = 偏差度 / \sqrt{ N } \)

稍微修改最佳化Global search演算法。
最佳化Needle search現在會產生更多一些結果（有時仍不會產生結果）。
現在可以在Project中進行保存和復原數值數據畫面。
現在您可以透過滑鼠滾輪來變更薄膜厚度等值。
幾乎所有值(不僅僅是薄膜厚度)都可以使用滑鼠滾輪進行更改。。
為防止操作錯誤，預設並未啟用此功能。
您可以到[工具] > [設定] > [其他]，選取「啟用以滑鼠滾輪更改數值」來啟用它。
現在您可以隱藏薄膜厚度變化滑動條。
您可以到[工具] > [設定] > [滑動尺與上下鍵]，選取「使用薄膜厚度變化滑動條」來變更。
不再支援 Windows 7 和 8。
修正了 TFV 版本 3.2.7 在 Windows7 上因異常錯誤而無法啟動的問題(但是，它不受支援。)。

最新版本下載 (僅限客戶)

版本3.2.7的更新

修復堆棧優化中多次設置相同膠片數據或無膠片時結果顯示不正確的問題。

版本3.2.6的更新

改進了對基板及單層膜的nk分析的擬合性能。

版本3.2.5的更新

修復了版本3.2.4中 Ctrl + C、Ctrl + V 複製和粘貼在主窗口的單元格中不起作用的錯誤。

版本3.2.4的更新

修复了在输入类型：连续值（入射角）时导致优化目标出错的错误。
修復了用戶行窗口佈局逐漸偏移的錯誤。
分光光度計文件讀取功能支持奧林巴斯 USPM-RU-W CSV 文件。

版本3.2.1的更新

修復了在製造誤差分析圖中選擇a*b*色度圖時繪製xy值的錯誤。
修復了在色彩計算中未選中堆棧屏幕上的Ra，Rp…時發生錯誤的錯誤。

版本3.2中有什麼新功能

計算基板及薄膜nk的功能

除了常規的單層膜nk分析外，現在還可以計算基板和金屬膜的nk。
從主視窗的選單中，選擇[工具]-[基板及單層膜的nk分析]

  1. 計算無吸收的基板的折射率(n)
    計算沒有膜的基板的折射率。
    在基板上無吸收時使用。
    需要是單面mat基板或雙面研磨基板。
  2. 計算具有吸收作用的基板的折射率(n)，吸收係數(k)和內部透射率(Ti)
    在基板上有吸收時使用。
    需要是單面mat基板或雙面研磨基板。
  3. 單層膜的nk分析
    從光譜反射率和光譜透射率，通過對色散公式進行曲線擬合來分析膜的n，k和膜厚度(d)。
    添加了僅分析正常色散(折射率隨波長變短而增加色散)的選項。
  4. 單層金屬薄膜的nk計算
    由正面反射率和背面反射率算出金屬膜的nk。
    膜必須足夠厚且透射率為零。

追加色散公式

  • SellmeierX1
    \[n(λ) = \sqrt{ 1 + {A_0λ^2 \over λ^2-{A_3}^2} + {A_1λ^2 \over λ^2-{A_4}^2} + {A_2λ^2 \over λ^2-{A_5}^2} } \]
  • Forouhi-Bloomer
    \[n(E) = n(∞) + {B_0E+C_0 \over E^2 - BE + C} \] \[k(E) = {A(E-E_g)^2 \over {E^2 - BE + C}} \] \[B_0 = {A \over Q}{({-B^2 \over 2} + E_gB - {E_g}^2 + C)} \] \[C_0 = {A \over Q}{\left(({E_g}^2 + C){B \over 2}-2E_gC\right)} \] \[Q = {1 \over 2}{(4C-B^2)}^{1 \over 2} \] \[E= {{hc} \over λ} \]
    h: 普朗克常數, c: 光速, E的單位是eV
    n(∞), Eg, A, B, C: 材料原有的參數(色散公式係數)

製造誤差分析

在切換圖形類型或諸如Ra，Rs，Rp，Ta ...之類的類型時，將使用相同的隨機數進行重新計算。如果要使用不同隨機數，更改設計值或切換圖紙，請按執行按鈕。
此外，現在可以分析Stack製造誤差。顯示Stack視窗時，將計算Stack製造誤差。 關閉Stack視窗時，將計算單側（主視窗的）的製造誤差。
 

最適化

現在，當目標類型為連續時，您可以目標平均值。
下圖是一個示例，其中波長500 nm至600 nm的Ra平均值目標為50％。
平均值目標

EMAX玻璃數據導入

現在，您可以導入光學設計軟體ZEMAX的玻璃數據(AGF文件)。
[檔案] – [導入] – [導入Zemax OpticStudio Glass目錄(AGF文件)]

玻璃數據更新

玻璃數據已更新為最新版本。
SCHOTT: 2019年1月版
OHARA: 2020年8月3日版
HOYA: 2020年3月14日版
HIKARI: 2020年4月1日版
SUMITA: 2020年7月15日版
CDGM: 2020年9月版

設計數據樣本

添加了設計數據樣本。

Bug修復

我們通過減少內存使用量來提高了操作的穩定性。
解決了在中心波長和入射角欄位中難以輸入小數點的問題。
解決了輸入濾光片波長時氣相沉積控制可能長時間不響應的問題。
其他小的錯誤修復程序已完成。

規格變更

在顏色計算中，色度圖(圖形)的縱橫比已更改為固定顯示。
如果要使用傳統的顯示方法，請到[曲線圖格式設定]-[選項]，然後取消選取“固定圖形的縱橫比”。
從主視窗選單中選擇[工具]-[記憶視窗位置]來保存所有的視窗位置（已廢除主視窗選單中的[記憶此視窗位置]）。

版本3.1中有什麼新功能

顏色計算

顏色匹配功能已更新為符合ISO 11664-1：2007。
與以前版本的色彩匹配函數ISO 10526：1991相比，計算結果略有不同，因為小數點後的位數增加了。

現在可以使用用戶創建的顏色匹配功能。

可以從 "360-830nm，1nm間隔"，"380-780nm，1nm間隔"，"380-780nm，5nm間隔(默認)" 中選擇顏色計算方法。
在[工具]-[設定]-[顏色計算]-[計算波長范圍和間隔]中設置。
*通常，以5nm為間隔進行計算就足夠了。

在XYZ彩色系統的色度坐標的數值上加上z。

增加了 主波長:Dominant Wavelength(λd)、補色主波長:Complementary Wavelength(λc)、激發純度:Excitation Purity(Pe)、色度純度:Colorimetric Purity(Pc)。

色散式

將Cauchy添加到k色散公式中。

導入Essential Macleod數據

添加了導入Essential Macleod Material和Substrate的功能。
通過從菜單中選擇[檔案]-[導入]，可以顯示導入屏幕。

可以讀取Essential Macleod設計數據（dds文件）。
從菜單中，使用[檔案]-[開啟舊檔]打開dds文件。
加載中心波長，入射角，基板，入射介質，層數，每層的膜厚度/Material以及註釋。
如果TFV中不存在具有相同名稱的Substrate/Material，則將自動導入該Substrate/Material。
*請注意，如果Essential Macleod和TFV具有相同的Substrate/Material且具有不同的分散數據，則計算結果將有所不同。

導出到光學設計軟體ZEMAX

添加了將設計值或計算結果導出到ZEMAX塗層文件的功能。
從菜單中，選擇[檔案]-[導出]以顯示導出屏幕。

錯誤修復

修復了無法使用[工具]-[設定]-[顏色計算]選擇啟動時的初始光源的錯誤。
修復了當Stack的第一面沒有膠片時Needle Search不起作用的錯誤。
其他小錯誤修復和改進。

版本3.0中有什麼新功能

膜厚的表示形式

現在顯示光學膜厚度和物理膜厚度。
物理厚度的單位可以選擇為nm和Å。
光學厚度的單位可以選擇為nd/λ(FWOT)或QWOT。

張數

主窗口的座位數增加到20個。

最適化

您现在可以将颜色设置为目标。
在初期設計可以選擇Stack。
它現在顯示needle search的優化歷史記錄。

製造誤差

您現在可以設置每個圖層的更改量。
現在可以在正常(高斯)分佈的情況下進行計算。

由單層膜的測定資料來對n・k的分散做解析

可以設置分析波長范圍。
請在波長范圍過寬時使用，或者排除測量精度較差的波長。
此外，有些情況下，在以前的版本中無法進行分析，但我們對其進行了改進，以便盡可能地進行分析。

高分辨率顯示兼容 4K ready!

即使是具有高分辨率顯示的字符也不會模糊。 根據Windows縮放設置縮放字符。
您還可以設置字體和字體大小。

基板和薄膜的層壓計算(Stack)

现在可以计算多个基板。
您现在可以记录基板的内部透射率。

Project的保存・讀取

在主視窗各Sheet上表示的膜數據或視窗的配置、曲線圖的書寫格式和使用者系統等現在的狀況都會以Project保存在檔案裡，讀取保存的Project檔案時，這些狀態就會被復原。

設計數據編輯

您現在可以通過選擇單元格範圍進行複制/粘貼。
可以一次插入/刪除多個圖層。

添加膜材料數據

添加了京都薄膜材料研究所(Kyoto Thin-Film Materials institute)的蒸發材料數據。
Al2O3(KTM), HfO2(KTM), LaF3(KTM), Ti3O5(KTM), ZrO2(KTM), ZRT2(KTM)

還添加了許多其他功能。

版本3.0中有什麼新功能(pdf)

版本3.0.2到3.0.4中的錯誤修正和改進

修復了設置多個波長范圍時只有第一個波長范圍有效的錯誤，並且在讀取項目文件時發生錯誤。
在製造誤差分析中，當ΔT，Δn，Δk的所有單位都被設置為σ：標準偏差時，出現錯誤的問題已得到糾正。
當在製造誤差分析中ΔT增加時，當膜厚度為負時，膜厚度被改善為計算為0。
改進使得Y軸標題和Y軸刻度的字符在波長圖和入射角圖中不重疊。

版本3.0.1到3.0.2中的錯誤修正和改進

Stack
   修復了在為多個面指定相同的圖紙設計時未正確計算的錯誤。
   修復了導致3D圖形和顏色計算錯誤的錯誤。
其他
   在高分辨率顯示環境中進行微調。

版本2.2中有什麼新功能

設計最適化

新增在needle search時，自動設定初期膜構成的機能。
[設計最適化] - [Needle Search] - [開始] - [Needle Search Parameters] - [初期膜構成自動設定]
目標值輸入方式改變，你可輸入目標值為xx %,由波長xx nm到xx nm。
[設計最適化] - [高度目標] - [類型] - [連續值(波長), 連續值(入射角)]

由單層膜測定值來解析nk

可解析n與k的不均質。
[由單層膜測定值來解析nk] - [Step4: 解析parameter] - [解析n的不均質, 解析k的不均質]

錯誤修復

修復了小錯誤。

版本2.1中有什麼新功能

色散資料追加

追加樹脂的分散。

基板資料
PCHMA, PEI, PMMA, Polycarbonate, Polystyrene, SAN
膜物質資料
Cytop

色散式追加

    色散式1
色散式2
色散式3

錯誤修復

修復了小錯誤。

演示版中的錯誤修復
n和k分析的結果現在顯示在圖表上。

版本2.0中有什麼新功能

設計最適化

由Local search、Global search、Needle search三種最適化手法中選取實行最適化。

(1) Local search
使用Levenberg-Marquardt法，藉著邊變更膜厚邊找尋最適當解析。
(2) Global search
Simulated Annealing Method法與Levenberg-Marquardt法組合的手法，在local search的途中，將膜厚隨意變更､避免陷入非本來解的局部解結果。
(3) Needle search
插入針狀的薄層，讓多層膜成長，藉此搜尋解。
手動mode
手動mode，用滑鼠將圖表上的特性拖曳變更形狀，使用那個能使之變形的local search進行最優化的新類型最優化方法。

波長、入射角的3D圖表顯示

等高線顯示。回轉、zoom可以。

製造誤差解析

某層的膜厚、折射率、吸收係數的誤差，於調查會對光學特性會造成多少程度影響時及調查設計值與實際成形薄膜的光學特性的乖離發生在哪一層時 (Mismatch解析)、及依據Monte Carlo simulation調查製造變異時(製造誤差解析)使用。

由單層膜的測定資料來對n・k的分散做解析

根據畫面選擇、輸入，就可的到解析結果。

不均勻

不均勻(折射率斜面)設定

反面測的特性

可以同時觀察有吸收的膜的表面側、反面側的特性來做設計。

兩面的合計特性

平行邊面基板的兩面(又或單面)附著於膜時的合計特性。

分光光度計測定資料

讀寫分光光度計測定資料夾，將可顯示於坡長曲線圖。 既可將使用分光光度計分光光度計測定的資料與設計值放於同一曲線圖做比較。

周期層

可設定週期層內的膜厚倍率。

光學式蒸鍍監控

可由以下3種測光方式中選擇。
1. 反面反射測光, 2. 表面反射測光, 3. 透過測光

電場強度分布

可選擇欲顯示的偏光種類。(x, y, z)

顏色計算

添加對應的光源種類。
對應A, B, C, D50, D55, D65, D75, E, F1, F2, F3, F4, F5, F6, F7, F8, F9, F10, F11, F12, ID50, ID65的各種光源。
添加色差: CIE2000

其他

添加繁體中文
866基板data為事先預設。SHOTT, OHARA, HOYA, SUMITA, HIKARI, CDGM(成都光明), 其他。
The quotation origin of all materials was described.
Add the converting the optical thickness and physical thickness.
Add the changing the center wavelength.
Add the Inversing the layers.
etc.

錯誤修復

Calculation mistake of the stop value in evaporation control when the thickness is optical thickness and the Evp-dn is not zero was fixed.
Color difference calculation mistake of dH* and dE94 were fixed. The sign of dL* and dC* were fixed.
Calculation mistake of the electric field intensity in p-polarization was fixed.